[发明专利]一种氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010275718.3 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN102403360A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 韩德栋;王漪;张盛东;孙雷;张韬;任奕成;韩汝琦 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 张肖琪
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法,属于半导体技术领域。该氧化锌基薄膜晶体管包括衬底、栅电极、栅介质层、沟道层和源漏电极,衬底是玻璃或者塑料;在衬底上由氧化锌或掺杂Al或者Ga氧化锌导电材料形成栅电极;半导体沟道是由氧化锌及其掺杂半导体材料形成;栅绝缘介质层是由氧化锌绝缘材料形成,设置于栅极和半导体沟道之间;源端和漏端电极是由氧化锌或掺杂Al或者Ga氧化锌导电材料形成。本发明为全氧化锌基薄膜晶体管,可提高器件各层薄膜之间的匹配度,降低了栅绝缘介质层和半导体沟道层之间的失配率,减少界面电荷密度,从而大大提高半导体沟道层的载流子迁移率,使氧化锌薄膜晶体管的性能得到了有效改善。
搜索关键词: 一种 氧化锌 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种氧化锌基薄膜晶体管,包括衬底、栅电极、栅介质层、沟道层和源、漏电极,其中,衬底是玻璃或者塑料,其特征在于,在衬底上为一氧化锌或掺杂Al或者Ga的氧化锌导电材料层,刻蚀形成栅电极;在栅电极之上为一氧化锌绝缘材料层,刻蚀形成栅绝缘介质层;在栅绝缘介质层之上为一氧化锌及其掺杂半导体材料层,刻蚀形成半导体沟道;再生长一氧化锌或掺杂Al或者Ga的氧化锌导电材料,刻蚀形成源端和漏端电极。
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