[发明专利]一种氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法无效
申请号: | 201010275718.3 | 申请日: | 2010-09-08 |
公开(公告)号: | CN102403360A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 韩德栋;王漪;张盛东;孙雷;张韬;任奕成;韩汝琦 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/34 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 张肖琪 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法,属于半导体技术领域。该氧化锌基薄膜晶体管包括衬底、栅电极、栅介质层、沟道层和源漏电极,衬底是玻璃或者塑料;在衬底上由氧化锌或掺杂Al或者Ga氧化锌导电材料形成栅电极;半导体沟道是由氧化锌及其掺杂半导体材料形成;栅绝缘介质层是由氧化锌绝缘材料形成,设置于栅极和半导体沟道之间;源端和漏端电极是由氧化锌或掺杂Al或者Ga氧化锌导电材料形成。本发明为全氧化锌基薄膜晶体管,可提高器件各层薄膜之间的匹配度,降低了栅绝缘介质层和半导体沟道层之间的失配率,减少界面电荷密度,从而大大提高半导体沟道层的载流子迁移率,使氧化锌薄膜晶体管的性能得到了有效改善。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 薄膜晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种氧化锌基薄膜晶体管,包括衬底、栅电极、栅介质层、沟道层和源、漏电极,其中,衬底是玻璃或者塑料,其特征在于,在衬底上为一氧化锌或掺杂Al或者Ga的氧化锌导电材料层,刻蚀形成栅电极;在栅电极之上为一氧化锌绝缘材料层,刻蚀形成栅绝缘介质层;在栅绝缘介质层之上为一氧化锌及其掺杂半导体材料层,刻蚀形成半导体沟道;再生长一氧化锌或掺杂Al或者Ga的氧化锌导电材料,刻蚀形成源端和漏端电极。
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