[发明专利]一种制造厚铜箔PCB的方法无效
申请号: | 201010275762.4 | 申请日: | 2010-09-08 |
公开(公告)号: | CN102404942A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 田先平 | 申请(专利权)人: | 田先平 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;H05K3/42 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 胡坚 |
地址: | 518008 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种制造厚铜箔PCB的方法,涉及到印制电路板的制造技术。解决蚀刻过程中侧蚀量大,使得铜箔线路的表面明显变细,铜箔度越厚,影响越大的技术问题。本方法采用步骤为:1)在铜箔的正面按照设计的线路图形制作抗蚀层,在铜箔反面全部敷上抗蚀层保护起来;2)对铜箔进行蚀刻,当正面的蚀刻区深度大于铜箔厚度的三分之一,小于铜箔厚度的三分之二时停止蚀刻;3)去掉铜箔正、反两面的抗蚀层,将正面与绝缘介质压合粘接;4)再次在铜箔的反面制作与正面上的线路图形成镜像的抗蚀层;5)再次对铜箔进行蚀刻,当反面的蚀刻区与正面的蚀刻区蚀刻穿透时停止。侧蚀量减少了一半,或者在要求同样侧蚀量的前提下,蚀刻铜箔的厚度可以提高一倍。 | ||
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【主权项】:
一种制造厚铜箔PCB的方法,其特征是:所述的方法采用以下步骤:1)在铜箔的正面按照设计的线路图形制作抗蚀层,在铜箔反面全部敷上抗蚀层保护起来;2)对铜箔进行蚀刻,当正面的蚀刻区深度大于铜箔厚度的三分之一,小于铜箔厚度的三分之二时停止蚀刻;3)去掉铜箔正、反两面的抗蚀层,将正面与绝缘介质压合粘接;4)将上述压合粘接有铜箔的绝缘介质进行孔金属化处理;5)再次在铜箔的反面制作与正面上的线路图形成镜像的抗蚀层;6)再次对铜箔进行蚀刻,当反面的蚀刻区与正面的蚀刻区蚀刻穿透时停止。
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