[发明专利]磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法无效
| 申请号： | 201010277532.1 | 申请日： | 2010-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102400106A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 吴桂龙;耿波;李杨超;刘旭 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法，本发明公开了一种磁控源，包括：靶材；磁控管，所述磁控管位于所述靶材之上；和控制所述磁控管移动的扫描机构，所述扫描机构包括：轨道，所述磁控管沿所述轨道确定的方向可移动；第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述轨道相连以驱动所述轨道在与所述靶材平行的平面上旋转；和第二驱动机构，所述第二驱动机构相对于所述第一驱动机构独立，所述第二驱动机构驱动所述磁控管沿由所述轨道确定的方向移动。通过本发明实施例可以分别对轨道的转动角速度和磁控管在由轨道确定的方向上的移动速度进行控制，从而能够提高靶材利用率，并且增加单位面积上的功率密度以提高金属离化率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控源 磁控溅射 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控源，其特征在于，包括：靶材；磁控管，所述磁控管位于所述靶材之上；和控制所述磁控管移动的扫描机构，所述扫描机构包括：轨道，其中，所述磁控管沿所述轨道确定的方向可移动；第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述轨道相连以驱动所述轨道在与所述靶材平行的平面上旋转；和第二驱动机构，所述第二驱动机构相对于所述第一驱动机构独立，所述第二驱动机构驱动所述磁控管沿由所述轨道确定的方向移动。
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