[发明专利]氧杂蒽-9-羧酸镉配合物及其制备方法有效
| 申请号： | 201010278223.6 | 申请日： | 2010-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102286008A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 方少明;杜淼;刘春森;户敏;周立明;张强 | 申请（专利权）人： | 郑州轻工业学院;天津师范大学 |
| 主分类号： | C07F3/08 | 分类号： | C07F3/08;C09K11/06 |
| 代理公司： | 郑州中原专利事务所有限公司 41109 | 代理人： | 张绍琳;孙诗雨 |
| 地址： | 450002*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 氧杂蒽-9-羧酸镉配合物及其制备方法，属于d10金属配合物荧光材料领域。配合物是下述化学式的配合物：[Cd(L)2(CH3OH)2]∞，其中L＝氧杂蒽-9-羧基阴离子配体。该配合物的合成采用挥发溶剂的方法。在常温常压下，将配体氧杂蒽-9-羧酸(HL)用甲醇溶解，加入一定量的2，6-二甲基吡啶搅拌均匀；再加入金属镉盐，搅拌溶解后过滤，然后静置挥发5～8天得到无色块状单晶。此合成过程具有简单，操作方便，稳定性好，产率高和可重现性好等优点。获得的固态材料有望在荧光材料领域得到进一步的研发。 | ||
| 搜索关键词： | 氧杂蒽 羧酸 配合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧杂蒽-9-羧酸的镉配合物，其特征在于：配合物是下述化学式的配合物：[Cd(L)2(CH3OH)2]∞，其中L＝氧杂蒽-9-羧基阴离子配体，L的结构式如下：![]()
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