[发明专利]光学异构的千金藤啶碱及其衍生物的制备方法有效
| 申请号： | 201010278752.6 | 申请日： | 2010-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102399166A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 朱富强;张佩璇 | 申请（专利权）人： | 山东特珐曼医药原料有限公司;上海特化医药科技有限公司 |
| 主分类号： | C07C235/34 | 分类号： | C07C235/34;C07C231/12;C07D311/76;C07D455/03;C07D217/20 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;鲁云博 |
| 地址： | 262123 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种通式(I)所示的化合物，其中各取代基的定义如说明书中所述。本发明还涉及该化合物的制备方法，该化合物在制备光学异构的四氢原小檗碱类化合物中的应用，以及其在制备光学异构的四氢原小檗碱类化合物的中间体。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 千金 藤啶碱 及其 衍生物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种如下通式(I)所示的化合物：![]()
其中，Z为Cl或Br；R1为C1～C10烷基或芳基取代的C1～C3烷基；R2和R3彼此相同或不同地为C1～C10烷基、C2～C10链烯基、C2～C10链炔基、芳基、芳基取代的C2～C10链烯基或芳基取代的C2～C10链炔基；R4为H、C1～C10烷基、甲酰基、C1～C10烷酰基、芳基取代的C1～C10烷酰基、芳酰基、C1～C10烷氧羰基、芳基取代的C1～C10烷氧羰基、被C1～C10烷基或芳基取代的磺酰基、三氟乙酰基或三氟甲磺酰基；其中，所述芳基为苯基或杂芳基，所述芳基非必需地被1～3个选自卤素、硝基、C1～C3烷基或C1～C3烷氧基中的取代基取代，所述杂芳基为含有1～3个N、S或O的五元或六元杂芳基。
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