[发明专利]基于碳化硅结型场效应管的β辐照探测器有效
申请号: | 201010278832.1 | 申请日: | 2010-09-09 |
公开(公告)号: | CN102074611A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 郭辉;洪朴;张玉明;张义门;程和远;詹晓伟 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/119 | 分类号: | H01L31/119;H01L31/0352;G01T1/24;H01L31/18 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于碳化硅金属半导体场效应晶体管结构的β射线辐照探测器,主要解决现有β辐照探测器抗辐照性能不佳和能量转换效率低的问题。该探测器自下而上包括n型衬底(8)、p型缓冲层(7)、浓度为3.5~4×1017cm-3的n型沟道(6)、n型缓冲层(5)和欧姆接触层(4),欧姆接触层上淀积源漏极(2),n型缓冲层上淀积半透明肖特基接触层(1),肖特基接触层由高势垒肖特基金属Au/Ti/Pt构成,其埋入n型缓冲层(5)的深度为0.06~0.08μm,栅极和源漏极以外的表面区域覆盖一层SiO2钝化层(3)。本发明具有抗辐照能力强、能量转换效率高、探测效率高的特点,可用于核能中对β射线的探测。 | ||
搜索关键词: | 基于 碳化硅 场效应 辐照 探测器 | ||
【主权项】:
一种碳化硅结型场效应晶体管β辐照探测器,从上到下包括:高掺杂的P+型栅区(1)、N+型SiC源漏层(4)、N型掺杂的缓冲层(5)、N型沟道层(6)、P型掺杂的缓冲层(7)以及4H‑SiC半绝缘衬底(8),在P+栅区(1)上和N+源漏区(4)上引出由重掺杂形成的欧姆接触(2),整个欧姆接触层外边缘矩形区域均有SiO2钝化层(3),其特征在于:N+型SiC源漏层(4)与N型沟道层(6)之间设有N型掺杂缓冲层(5);在N型沟道层(6)和4H‑SiC半绝缘衬底(8)之间设有P型掺杂缓冲层(7),形成双层缓冲层结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的