[发明专利]基板液处理装置以及处理液生成方法有效

专利信息
申请号: 201010278933.9 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN102024693A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 江岛和善 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种基板液处理装置和处理液生成方法。该基板液处理装置无论同时使用的处理液的流量如何都能够生成规定浓度的处理液。该基板液处理装置包括:多个基板处理部,其用处理液处理基板;处理液生成部,其通过使气体溶解于溶剂而生成规定浓度的处理液,将该处理液作为同时向多个基板处理部中的一个或两个以上基板处理部供给的处理液;控制部,其控制处理液生成部和多个基板处理部;其中,使自溶剂供给源供给的溶剂分支流入用于借助气体溶解器使气体溶解于溶剂的溶解流路、以及与溶解流路并列连接的旁路流路中,改变旁路流路的流路阻力,使得在溶解流路中流动的溶剂的流量与在旁路流路中流动的溶剂的流量的比例恒定。
搜索关键词: 基板液 处理 装置 以及 生成 方法
【主权项】:
一种基板液处理装置,其包括:多个基板处理部,其用于利用处理液处理基板;处理液生成部,其通过使气体溶解于溶剂来生成规定浓度的上述处理液,将上述处理液作为同时向上述多个基板处理部中的一个或两个以上基板处理部供给的处理液;控制部,其用于控制上述处理液生成部和上述多个基板处理部,其特征在于,上述处理液生成部包括:溶剂供给管,其连接于溶剂供给源,用于供给上述溶剂;溶解流路,其用于使上述气体溶解于自上述溶剂供给管供给的上述溶剂;旁路流路,其与上述溶解流路并列连接地设置,用于供上述溶剂流动;阻力改变部件,其用于改变上述旁路流路的流路阻力;上述控制部控制阻力改变部件,使得在上述溶解流路中流动的上述溶剂的流量与在上述旁路流路中流动的上述溶剂的流量的比例恒定。
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