[发明专利]激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统

摘要

本发明公开了一种采用激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统，本系统利用激光干涉光刻技术不同的曝光方法会产生不同间距的图形。通过特定的光束组合方式，来调控干涉场内的光强度分布，用调制后重新分布的激光能量烧蚀被加工材料表面，从而产生光刻图形。本系统由激光器，扩束器，分束器，反射镜，偏振片及上述光学元器件装置的夹持与调节机构所组成，通过变换光学器件的相对摆放位置，改变照射到基片材料表面的相干光束的入射角，从而调整被加工材料表面的微细网孔结构的参数。该系统可实现光刻特征尺寸从几纳米到几百微米可调。通过光学移相或机械位移样品，重复曝光或多次曝光插补以实现高密度微纳米过滤膜网孔结构。

主权项

一种采用激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统，其特征在于，使用多光束激光干涉光刻系统，将多个相干激光束组合，对干涉场内的光强度分布进行强弱调制，用调制后重新分布的激光能量烧蚀被加工材料表面，在大面积范围内形成单层或多层微米或纳米级密集的柱形、锥形浮雕或孔结构，形成过滤膜的网孔结构，从而过滤空气和水中的杂质、细菌、病毒等，提高净化空气和水的纯净度。