[发明专利]抛光研磨蜡的配方无效
申请号: | 201010279263.2 | 申请日: | 2010-09-13 |
公开(公告)号: | CN102399495A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 黄炜贞 | 申请(专利权)人: | 上海伊宇商贸有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09G1/08;C09K3/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201300 上海市南汇*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及一种抛光研磨蜡的配方,按如下重量百分比的组分组成:70%地蜡、13%硅藻上、5%氧化铝、7%矿物油、3%乳化剂以及2%的色素组成,主要用于浅划痕处理及漆膜的磨平。 | ||
搜索关键词: | 抛光 研磨 配方 | ||
【主权项】:
一种抛光研磨蜡的配方,按如下重量百分比的组分组成:70%地蜡、13%硅藻土、5%氧化铝、7%矿物油、3%乳化剂以及2%的色素组成。
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