[发明专利]高遮蔽反射膜与其制造工艺有效

专利信息
申请号: 201010282728.X 申请日: 2010-09-13
公开(公告)号: CN102401921A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 张仁怀;林昭颖 申请(专利权)人: 宏腾光电股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;B32B23/08
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 郑小军;冯志云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高遮蔽性的反射膜与其制造工艺,该高遮蔽反射膜包括一光学反射膜、一偏光片及结合层,光学反射膜由多层不同材质堆叠的介电质光学膜所组成;偏光片可将射向该偏光片的光线中部分的光线吸收并产生一偏振态,结合层将光学反射膜与偏光片以特定方式结合固定。光学反射膜由多层不同材质堆叠的介电质光学干涉膜所组成,利用光学干涉的原理,能将大部分打入光学反射膜的光线反射,部分穿透。偏光片则可将射入光线中约一半的光线吸收一半穿透。利用光学反射膜材质和偏光片两者反射特性的不同,拉大反射率差异。即此高遮蔽反射膜会使不同方向射入光线的反射率差异大幅增加,使此高遮蔽反射膜达到单向镜的防窥效果。
搜索关键词: 遮蔽 反射 与其 制造 工艺
【主权项】:
一种高遮蔽反射膜,其特征在于所述的高遮蔽反射膜包括:一光学反射膜,由多层不同材质堆叠的介电质光学膜所组成;一偏光片,可将射向该偏光片的光线中部分的光线吸收并产生一偏振态;以及一结合层,将该光学反射膜和该偏光片结合并固定。
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