[发明专利]具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料及其合成方法和用途无效
| 申请号： | 201010283148.2 | 申请日： | 2010-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN101948590A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 李亮;赵旭;张强;陈郁勃;高大志 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | C08L25/06 | 分类号： | C08L25/06;C08L25/18;C08K9/04;C08K3/04 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料及其合成方法和用途，包括有以下步骤：1）制备单层或多层氧化石墨；2）将步骤1）得到的氧化石墨与异氰酸苯酯在N,N-二甲基甲酰胺中于60－90oC反应12－48小时，抽滤、洗涤和干燥后，得功能化氧化石墨；3）将步骤2）得到的功能化的氧化石墨与绝缘高分子在有机溶剂中超声0.5－2小时，然后向其中加入还原剂，于60－100oC反应24－48小时，倒入甲醇中沉淀，过滤，真空烘干得到绝缘高分子/石墨烯复合材料。本发明显著特点是：1）实验条件温和，操作简单；2）可调控基于该复合材料的存储器件的开启电压和开关电流比，在信息材料领域有较好的应用前景和经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 存储 效应 绝缘 高分子 石墨 复合材料 及其 合成 方法 用途 | ||
【主权项】：
具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料，其特征在于其组分包括有氧化石墨、异氰酸苯酯、绝缘高分子和还原剂经反应制备而成，所述的组分含量配比为：氧化石墨：异氰酸苯酯：绝缘高分子：还原剂=50mg： 1‑5mmol：0.5‑5g：2‑6mg。
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