[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201010283377.4 | 申请日： | 2010-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102400094A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;黄嘉 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，包括基材，形成于基材表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的硬质层，该打底层为铝、钛、铬或锆层，该过渡层含有硼氮化钨与硼氮化钼中的一种及所述打底层中的金属的硼氮化物，该硬质层为硼氮化钨层或硼氮化钼层。本发明镀膜件在基材的表面沉积金属作为打底层，再在打底层的表面沉积过渡层，再在过渡层的表面沉积硬质层，膜系逐层过渡较好，膜层内部没有明显的应力产生，这样在施加外力的情况下，所镀的膜层不会因为内部的应力缺陷导致失效，有效地提高了镀膜件的使用寿命。此外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，包括基材，其特征在于：该镀膜件还包括形成于基材表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的硬质层，该打底层为铝、钛、铬或锆层，该过渡层含有硼氮化钨与硼氮化钼中的一种及所述打底层中的金属的硼氮化物，该硬质层为硼氮化钨层或硼氮化钼层。
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