[发明专利]晶圆级透镜阵列的制造方法、晶圆级透镜阵列、透镜模组及摄像单元有效
申请号: | 201010283525.2 | 申请日: | 2010-09-14 |
公开(公告)号: | CN102023326A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 山田大辅;松野亮 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;H04N5/225 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种晶圆级透镜阵列的制造方法、晶圆级透镜阵列、透镜模组及摄像单元,其中晶圆级透镜阵列的制造方法是形成基板部和排列在该基板部的多个透镜部的晶圆级透镜阵列的制造方法,其中,在预先形成的基板部,由具有实质上与该基板部的成形材料相同的光学特性的树脂一体成形上述透镜部。由此,通过抑制成形材料的收缩等影响,与晶圆级透镜阵列彼此或摄像元件的阵列重叠时,可防止透镜彼此的偏位且容易进行设计。 | ||
搜索关键词: | 晶圆级 透镜 阵列 制造 方法 模组 摄像 单元 | ||
【主权项】:
一种晶圆级透镜阵列的制造方法,是形成有基板部和排列在该基板部的多个透镜部的晶圆级透镜阵列的制造方法,其中,在预先形成的上述基板部,由具有与该基板部的成形材料实质上相同的光学特性的树脂一体成形上述透镜部。
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