[发明专利]光刻设备和光刻投影设备有效
| 申请号： | 201010283687.6 | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101950130A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | E·C·凯德泽克;J·范德埃克;D·L·安斯托特兹 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种浸没光刻设备以及光刻投影设备，该光刻设备的一个入口设置成提供清洁流体到位于衬底台上的对象物体，例如衬底，和衬底台之间的空间上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 投影设备 | ||
【主权项】：
一种浸没光刻设备，包括：衬底台，构造成支撑衬底；衬底台内的排液装置，构造成容纳使用时泄漏进入衬底台的边缘和衬底台上的对象物体之间的间隙中的浸没流体；和邻近延长构件端部的入口，所述延长构件配置用于供给清洁流体到(i)所述间隙，或(ii)所述排液装置的入口，或(iii)所述排液装置，或(iv)任何选自(i)‑(iii)的组合。
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