[发明专利]一种硅片预对准装置及方法有效

专利信息
申请号: 201010286105.X 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN102402127A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 蔡巍;徐兵;陈跃飞;王端秀 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种硅片预对准装置,包括用于吸附硅片并带动硅片进行旋转的旋转台,用于获取硅片边缘在水平向位置的边缘水平向传感器,用于获取硅片边缘在垂向位置的边缘垂向传感器,用于对旋转台、边缘水平向传感器和边缘垂向传感器进行同步控制的控制器,其中,当旋转台旋转时,控制器向边缘水平向传感器和边缘垂向传感器发送同步触发信号,从而两个传感器同时获取各自当前的测量值,同步获得硅片的边缘水平向位置和边缘垂向位置,通过在该点的垂向位置测量值来补偿硅片边缘当前水平向测量值。硅片旋转一周,即可以获取硅片边缘所有的水平向测量值,进而可以获取硅片的偏心值和硅片缺口的方向。本发明还提供一种硅片预对准的方法。
搜索关键词: 一种 硅片 对准 装置 方法
【主权项】:
一种硅片预对准装置,包括:旋转台,用于吸附硅片并带动硅片进行旋转;边缘水平向传感器,用于获取硅片边缘在水平向的位置;边缘垂向传感器,用于获取硅片边缘在垂向的位置;控制器,用于对旋转台、边缘水平向传感器和边缘垂向传感器进行同步控制;其中,当旋转台旋转时,控制器向边缘水平向传感器和边缘垂向传感器发送同步触发信号,从而两个传感器同时获取各自当前的测量值,同步获得硅片边缘水平向位置和边缘垂向位置,通过在该点的垂向位置测量值来补偿硅片边缘水平向测量值。
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