[发明专利]三维扇出晶圆级半导体封装件及其制造方法有效
申请号: | 201010286359.1 | 申请日: | 2010-09-07 |
公开(公告)号: | CN102136433A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 李明锦;王建皓 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60;H01L21/768 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 中国台湾高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 在一实施例中,形成半导体封装件的方法包括:(1)提供一载具及一具有一主动表面的半导体组件;(2)形成一第一重新分布结构,包含一在第一结构中侧向延伸的第一电性互连件及数个自第一电性互连件的第一表面垂直延伸的第二电性互连件,每个第二互连件包括一邻接于第一表面的下表面及一相对于下表面的上表面;(3)设置组件于载具上,使得主动表面邻接于载具;(4)设置第一结构于载具上,使得每一个第二互连件的上表面邻接于载具,且第二互连件环绕于组件的周围;以及(5)形成一第二重新分布结构,以邻接至主动表面,第二重新分布结构包括一第三电性互连件,第三电性互连件于第二结构中侧向延伸。 | ||
搜索关键词: | 三维 扇出晶圆级 半导体 封装 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种形成半导体封装件的方法,包括:提供一载具;提供一半导体组件,包括一主动表面、一侧向表面以及一相对于该主动表面的上表面;形成一第一重新分布结构,该第一重新分布结构包括一第一电性互连件及数个第二电性互连件,该第一电性互连件于该第一重新分布结构中侧向延伸,该些第二电性互连件自该第一电性互连件的一第一表面垂直延伸,各该第二电性互连件包括一邻接于该第一表面的下表面、一侧向表面以及一相对于该下表面的上表面;设置该半导体组件于该载具上,使得该主动表面邻接于该载具;设置该第一重新分布结构于该载具上,使得各该第二电性互连件的该上表面邻接于该载具,且该些第二电性互连件环绕该半导体组件;以及形成一第二重新分布结构,该第二重新分布结构邻接于该半导体组件的该主动表面,该第二重新分布结构包括一第三电性互连件,该第三电性互连件于该第二重新分布结构中侧向延伸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造