[发明专利]一种微影方法有效
| 申请号： | 201010287801.2 | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102147571A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 张世明;林世杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种微影方法，包括：在一基板上提供一能量敏感光阻材料层；提供一待刻图案；及在该基板上进行一微影制程，其中该微影制程包括：将该能量敏感光阻材料曝光至一带电粒子束，以将该待刻图案转移至该能量敏感光阻材料；将该带电粒子束由关闭状态切换为散焦状态，其中该散焦状态用于补偿一反向散射能量，从而减小邻近效应。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 方法 | ||
【主权项】：
一种微影方法，其特征在于，包括：在一基板上提供能量敏感光阻材料；提供待刻图案；在该基板上进行微影制程，其中该微影制程包括：将该能量敏感光阻材料曝光于一带电粒子束，以使该待刻图案移至该能量敏感光阻材料上；及将该带电粒子束由关闭状态切换为散焦状态，其中该散焦状态用于补偿反向散射能量，从而减小邻近效应。
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