[发明专利]摆动喷嘴单元以及具有摆动喷嘴单元的基板处理装置有效
| 申请号： | 201010288906.X | 申请日： | 2010-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102019248A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 郑英周;金鹏;金泰镐 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | B05B15/08 | 分类号： | B05B15/08;B05B15/04;B05B1/00;H01L21/02;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 韩国忠淸南道天*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于清洁基板的单晶片处理装置。该装置包括基板支撑构件，该基板支撑构件包括用来放置基板的旋转头；处理碗，该处理碗设置为环绕所述旋转头并且适于收集从基板散射出来的处理液；以及摆动喷嘴单元，该摆动喷嘴单元适于通过摇摆旋转将处理液喷射至放置在该旋转头上的基板，其中该摆动喷嘴单元包括喷嘴部分，该喷嘴部分具有喷嘴主体，该喷嘴主体由用于提供设置处理液供给管的内部路径的内部树脂管构成，金属管，该金属管设置为围绕所述内部树脂管，以及外部树脂管，该内部树脂管设置为围绕所述金属管；以及喷嘴驱动器，该喷嘴驱动器适于在θ轴方向上旋转该喷嘴部分并且在Z轴方向上上下移动该喷嘴部分。 | ||
| 搜索关键词： | 摆动 喷嘴 单元 以及 具有 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种摆动喷嘴单元，包括：喷嘴部分，包括具有杆状形式的喷嘴主体，提供了用于设置处理液供给管的内部路径，其中所述喷嘴主体包括：内部树脂管；金属管，设置为围绕所述内部树脂管；以及外部树脂管，设置为围绕所述金属管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司，未经细美事有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010288906.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：风电变桨系统
- 下一篇：一种采用新型导叶和转轮叶片型线的混流式水轮机
