[发明专利]真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机无效
| 申请号： | 201010289461.7 | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101949000A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 林锡强;陈孝田;鲁明辉 | 申请（专利权）人： | 温州市佳能真空电镀设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/32;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的弧源装置，在真空室体上还设有磁控溅射装置。本发明有益的技术效果是：由于在真空室体上同时设有弧源装置和磁控溅射装置，在一台镀膜机上既可进行多弧离子镀膜，又可进行磁控溅射镀膜，也可同时进行两种方式的镀膜或先一种镀膜再另一种镀膜，具有一机多用、适用性广、镀膜产品丰富的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 离子 复合 镀膜 | ||
【主权项】：
真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的弧源装置，其特征在于：在真空室体上还设有磁控溅射装置，磁控溅射装置包括与真空室体固定连接的磁控靶法兰、与磁控靶法兰固定连接并置于真空室中的磁控靶铁轭、磁控靶磁铁、磁控靶阴极板、磁控靶材，磁控溅射装置还包括冷水套、进水道座和出水道座，进水道座和出水道座与磁控靶法兰固定连接，冷水套固设在进水道座和出水道座的里端，磁控靶铁轭、磁控靶磁铁、磁控靶阴极板、磁控靶材依次固定在冷水套上，在冷水套和磁控靶阴极板之间构成冷却水通道。
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