[发明专利]测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法无效

专利信息
申请号: 201010292164.8 申请日: 2010-09-26
公开(公告)号: CN101979995A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 顿爱欢;魏劲松;干福熹 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N3/28 分类号: G01N3/28;G01N1/32
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法,其特征是在待测薄膜下设置一层氧化物膜层,该氧化物膜层在脉冲激光的作用发生分解反应生成O2,这些O2的压力使表面的待测薄膜发生体积膨胀,形成类似于球冠状凸起,通过测量该球冠凸起的高度和直径,计算出该球冠的弧长和表面积,进而得出该待测薄膜的线延伸率和面延展率,调节激光参数,获得最大球冠状凸起,测量最大球冠状凸起的高度和直径,计算该待测薄膜材料的最大线延伸率和延展率。本发明方法操作简单,不用专门的系统提供压力,可以测量多种材料的线延伸率和面延展率,测量薄膜的厚度可以达到纳米级。
搜索关键词: 测量 纳米 薄膜 延伸 延展 方法
【主权项】:
一种测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法,其特征是在待测薄膜下设置一层氧化物膜层,该氧化物膜层在脉冲激光的作用发生分解反应生成O2,这些O2的压力使表面的待测薄膜发生体积膨胀,形成类似于球冠状凸起,通过测量该球冠凸起的高度和直径,计算出该球冠的弧长和表面积,进而得出该待测薄膜的线延伸率和面延展率,调节激光参数,获得最大球冠状凸起,测量最大球冠状凸起的高度和直径,计算该待测薄膜材料的最大线延伸率和延展率。
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