[发明专利]连续模块化设计PECVD腔体

摘要

本发明提供了一种连续模块化设计PECVD腔体，它包括顺序相连的进片室、工艺室和出片室，其中的工艺室的构成包括加热腔、表面处理腔、两个光退火腔、两个镀膜腔和缓冲腔。上述进片室、出片室以及构成工艺室的各腔都具有标准化接口；PECVD腔体中的工艺室至少由加热腔、一个镀膜腔和缓冲腔顺序连接构成。本发明的连续模块化设计PECVD腔体实现了腔体功能的独立化、腔体连接的标准化和程序控制的网络化。可由具有相应功能的独立的腔体，通过腔体间的标准化连接实现功能的增加或减少。

主权项

一种连续模块化设计PECVD腔体，包括顺序相连的进片室、工艺室和出片室，其特征在于：所述的工艺室的构成包括加热腔、表面处理腔、两个光退火腔、两个镀膜腔和缓冲腔；所述的进片室、出片室以及构成工艺室的各腔都具有标准化接口；所述的PECVD腔体中的工艺室至少由加热腔、一个镀膜腔和缓冲腔顺序连接构成。