[发明专利]发光装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201010294325.7 | 申请日： | 2008-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101950920A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 神川刚;川口佳伸 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/028 | 分类号： | H01S5/028;H01S5/022 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 葛青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种发光装置及其制造方法。该发光装置包括光吸收膜(5)，其形成在用在激光器装置中的典型地为激光器芯片(1)的激光器芯片的发光侧的端部表面的最外表面上，并且该光吸收膜吸收部分所发射的光。通过形成该光吸收膜(5)，抑制了由与所发射的光反应引起的污染物的附着和聚集。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种发光装置，包括：芯片，用于发光；和光吸收膜，形成在来自该芯片的光发射通过的端部表面的最外表面上，以吸收部分所发射的光，其中该光吸收膜具有贫氧膜，该贫氧膜是氧化物，并且该贫氧膜的组分比其化学计量组分具有更少的氧。
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