[发明专利]含纳米硅紫外厚膜正性光刻胶及其成膜树脂有效

专利信息
申请号: 201010294955.4 申请日: 2010-09-28
公开(公告)号: CN101979435A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 冉瑞成;沈吉 申请(专利权)人: 昆山西迪光电材料有限公司
主分类号: C08L61/10 分类号: C08L61/10;C08L25/14;C08L61/14;C08L33/14;C08L25/18;G03F7/039
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡;王华
地址: 215311 江苏省昆山市巴城*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种紫外厚膜光刻胶,主要由10~35份的酚醛树脂、1~10份的含纳米硅共聚物成膜树脂、5~20份的重氮萘醌类光敏化合物、30~85份溶剂以及少量其他添加剂如正丁胺和表面活性剂作为原料配制,然后经过5微米,1微米和0.2微米的过滤器过滤而得。成膜树脂中碱性可溶的含纳米硅共聚物成膜树脂部分的加入可增加成膜剂的粘附性、柔韧性、侧壁垂直度和机械性能,达到在凸点工艺和3D立体组合封装以及MEMS制造中防止胶膜开裂、图型变形甚至脱落的目的。
搜索关键词: 纳米 紫外 厚膜正性 光刻 及其 树脂
【主权项】:
1.一种成膜树脂,其特征在于:所述成膜树脂由酚醛树脂和含纳米硅共聚物成膜树脂两部分组成;所述酚醛树脂是由符合通式(I)、(II)和(III)中的至少一种甲基苯酚与甲醛经缩聚反应而得,其平均分子量为2000~50000;式中:R1为CH3;所述含纳米硅共聚物成膜树脂平均分子量为5000~1500000,由符合化学通式(IV)的单体、符合化学通式(V)的单体以及符合化学通式(VI)的单体在自由基引发剂存在的条件下经共聚反应而得;或者是由符合通式(IV)的单体与所述酚醛树脂共聚反应制成;式中:R2是碳原子数为1~13的烷基、Rf选自下列基团之一:其中A、B、C、D各自独立地代表碳原子数为1~20的脂肪烃基,或者是分子链上含有1~5个氧原子或者氮原子的碳原子数为1~20的脂肪烃基;其中E、F、G、H、I、J、K和L各自独立地代表碳原子数为1~20的脂肪烃基,或者是分子链上含有1~5个氧原子或者氮原子的碳原子数为1~20的脂肪烃基;其中R3是H、CH3或CF3其中,M、N和O各自独立地代表碳原子数为1~10的脂肪烃基,或者是分子链上含有1~3个氧原子或者氮原子的碳原子数为1~10的脂肪烃基;R4、R5、R6各自独立地代表H、碳原子数为1~8的烷基、碳原子数为3~8的环烷基、或者芳香基团;-(CH2)1~10COOH、-(CH2)1~10CN、-(CH2)1~10SH或碳原子数为1~10的烯烃基;式中:R7是H、OH、OCH3或OCOCH3式中:R8是H或CH3;R9是H、碳原子数为1~20的烷基、碳原子数为3~8的环烷基、或碳原子数为1~20的羟基烷基。
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