[发明专利]基板的研磨装置及基板的研磨方法无效
申请号: | 201010297257.X | 申请日: | 2010-09-28 |
公开(公告)号: | CN102416597A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 久保岳;木村宏;横田稔;宫下纯一 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够长时间顺利地对玻璃基板进行研磨的基板的研磨装置及基板的研磨方法。本发明将与吸附片相比拉伸方向的刚性高的中间片夹在膜体和吸附片之间并进行粘接。通过研磨中产生的研磨阻力,膜体在拉伸方向上伸缩,由于膜体的伸缩动作,有时中间片和膜体之间发生剥离,但由于中间片介于膜体和吸附片之间,因此在因玻璃基板G的吸附而制约伸缩的吸附片和拉伸方向的刚性比吸附片高的中间片之间,由于中间片在拉伸方向上不伸缩,因此不会发生相对偏离,能够防止吸附片从中间片剥离并卷起。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基板的研磨装置,向安装有吸附并保持基板的吸附片的膜体和安装有该膜体的托架之间供给加压流体,利用所述加压流体的压力将被所述吸附片吸附保持的基板按压在研磨平台上进行研磨,其特征在于,在所述膜体和所述吸附片之间粘接有中间片,该中间片的拉伸方向的刚性比所述吸附片的拉伸方向的刚性高。
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