[发明专利]镀膜件及其制备方法

摘要

本发明提供一种镀膜件，包括基材、形成于基材表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的硬质层，该打底层为Al、Ti、Cr或Zr层；该过渡层为AtXyMez(CvN1-v)层，其中A为打底层中的金属Al、Ti、Cr或Zr，X为W或Mo，Me为Rh或Pd；该硬质层为XnMeg(CkN1-k)层，其中X为过渡层中的金属W或Mo，Me为过渡层中的金属Rh或Pd。本发明镀膜件所镀膜系逐层过渡较好，膜层内部没有明显的应力产生，此外过渡层和硬质层中引入了Rh或Pd，在高温状态可对膜层的硬度起强化作用，相应地提高了镀膜件的使用寿命和使用温度范围。另外，本发明还提供该种镀膜件的制备方法。

主权项

一种镀膜件，包括基材，其特征在于：该镀膜件还包括形成于基材表面的打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的硬质层，该打底层为Al、Ti、Cr或Zr层；该过渡层为AtXyMez(CvN1‑v)层，其中0.4≤t≤0.8，0.35≤y≤0.65，0.05≤z≤0.08，0.75≤(t+y+z)≤1.05，0.75≤v≤1.0，其中A为打底层中的金属Al、Ti、Cr或Zr，X为W或Mo，Me为Rh或Pd；该硬质层为XnMeg(CkN1‑k)层，其中0.35≤n≤0.65，0.05≤g≤0.08，0.40≤(n+g)≤0.71，0.70≤k≤1.0，其中X为过渡层中的金属W或Mo，Me为过渡层中的金属Rh或Pd。