[发明专利]集成电路结构有效

专利信息
申请号: 201010501849.9 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN102208409A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 刘醇鸿;侯上勇;郑心圃;吴伟诚;魏修平;陈志华;郭正铮;陈承先;曾明鸿 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/58
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供集成电路结构,包括半导体芯片,金属垫在半导体芯片的主要表面上,以及凸块下金属层在金属垫之上与金属垫接触,金属凸块形成于凸块下金属层之上与凸块下金属层电性连接,伪图案形成在与金属垫相同的水平面上,且由与金属垫相同的金属材料形成。本发明对于改善芯片的可靠度具有显著的效果。
搜索关键词: 集成电路 结构
【主权项】:
一种集成电路结构,包括:一半导体芯片;一金属垫,设置于该半导体芯片的一主要表面上;一凸块下金属层,设置于该金属垫之上,与该金属垫接触;一金属凸块,设置于该凸块下金属层之上,与该凸块下金属层电性连接;以及一伪图案,设置在与该金属垫相同的水平面上,且由与该金属垫相同的金属材料制成。
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