[发明专利]基于斜入射的平面度绝对检验方法

摘要

本发明公开了一种基于斜入射的平面度绝对检验方法，该方法通过斐索干涉仪的空腔干涉以及两次斜入射测量得到三组波面数据，使用Zernike多项式对波面拟合，通过求解待测表面的旋转不变量和旋转因变量获得整个平面的绝对面形分布。本发明简化了测量步骤缩短了测量时间，不需要拆装参考透射平晶，仅需要三次测量能够得到被检平面的绝对面形分布，特别适用于高反射率光学平面的面形绝对检验。

主权项

一种基于斜入射的平面度绝对检验方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将参考透射平晶[2]装夹在数字波面干涉仪[1]的参考面位置，将参考反射平晶[4]装夹在测试面位置，调整参考透射平晶[2]、参考反射平晶[4]，使参考透射平晶[2]的工作面A和参考反射平晶[4]的工作面C发生空腔干涉，利用干涉仪[1]测量并储存空腔波面数据M1(x，y)；步骤2：使用十字叉丝标记参考反射平晶[4]的中心，使用干涉仪软件来标记参考透射平晶[2]的中心位置[5]，撤去参考反射平晶[4]，将被测件[3]及参考反射平晶[4]依斜入射光路摆放，调整被测件[3]的位置，使被测件[3]成椭圆像在视场中，且椭圆的中心与参考透射平晶[2]的中心位置[5]重合；调整参考反射平晶[4]的位置，使参考反射平晶[4]的十字叉丝与中心位置[5]重合，移去参考反射平晶[4]的十字叉丝，利用干涉仪[1]测量并储存得到的第一组斜入射波面数据M2(x，y)，测试后将十字叉丝放回参考透射平面[4]的中心；步骤3：依面法线方向逆时针旋转被测件[3]，旋转后保持椭圆中心和十字叉丝中心重合，撤去十字叉丝，利用干涉仪[1]测量并储存得到的第二组斜入射波面数据M3(x，y)；步骤4：根据上述三个步骤的测量结果，计算得到被测件[3]的被测面B的绝对面形分布。