[发明专利]一种改进的晶圆显影方法无效
| 申请号： | 201010503735.8 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102445862A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 郝静安;安辉;林益世 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/32;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改进的晶圆显影方法，包括如下步骤：A、对曝光后的晶圆上表面喷洒去离子水，去离子水完全覆盖住晶圆的上表面；B、将显影液均匀喷洒在晶圆上表面；C、使晶圆高速旋转的同时，向晶圆喷洒去离子水，实现对晶圆的清洗。本发明方案可以有效避免晶圆表面卫星状缺陷的出现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进 显影 方法 | ||
【主权项】：
一种改进的晶圆显影方法，其特征在于，包括如下步骤：A、对曝光后的晶圆上表面喷洒去离子水，去离子水完全覆盖住晶圆的上表面；B、将显影液均匀喷洒在晶圆上表面；C、使晶圆高速旋转的同时，向晶圆喷洒去离子水，实现对晶圆的清洗。
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