[发明专利]用于锂离子电池抗过充混合添加剂中的氧化还原对无效
| 申请号： | 201010504985.3 | 申请日： | 2010-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN102005619A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 杨续来;徐小明;刘大军;韦佳兵 | 申请（专利权）人： | 合肥锂鑫能源材料有限公司 |
| 主分类号： | H01M10/42 | 分类号： | H01M10/42;H01M10/0567 |
| 代理公司： | 合肥诚兴知识产权代理有限公司 34109 | 代理人： | 宣圣义 |
| 地址： | 230011 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 用于锂离子电池抗过充混合添加剂中的氧化还原对，属锂离子电池过充电保护添加剂技术领域。其目的是提供一种用于锂离子电池抗过充混合添加剂中的氧化还原对，该氧化还原对添加剂应具有较好的循环稳定性，高的位阻效应，使其在过充保护过程中自身不发生聚合反应，同时在电聚合单体存在的情况下也不与电聚合单体发生反应，从而提高氧化还原对的过充保护性能。该氧化还原对添加剂为含有两个及以上高位阻取代基的芳环类化合物，添加量为在电解液中的饱和浓度。所述氧化还原对自身不聚合，也不与电聚合单体发生反应。在氧化还原对/电聚合混合添加剂使用过程中，两种过充保护机制独立而有次序的对电池进行保护，提高了电池的安全使用性能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 锂离子电池 混合 添加剂 中的 氧化 还原 | ||
【主权项】：
1.一种用于锂离子电池抗过充混合添加剂中的氧化还原对，其特征在于：所述氧化还原对添加剂为含有两个及以上高位阻取代基的芳环类化合物，所述高位阻氧化还原对添加剂的结构式为：![]()
式中R1、R2、R3和R4中至少有两个或至多有三个须为高位阻烷基官能团，同时，相应的R1、R2、R3和R4中至多有两个或至少有一个须为-OR或-O-Li+官能团，其中R为碳原子在1到10之间的烷基官能团或被卤素取代的烷基官能团。
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