[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法有效
| 申请号： | 201010505735.1 | 申请日： | 2007-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN101986209A | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置、曝光方法及组件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向直线移动的期间，通过多点AF系统(90a、90b)检测在X轴方向以规定间隔所设定的多个检测点中晶片(W)表面的面位置信息，且通过沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片(W)上彼此不同位置的标记。即，由于晶片载台(晶片)仅直线通过多点AF系统的多个检测点的排列与多个对准系统，就结束多个检测点中晶片表面的面位置信息的检测与晶片上彼此不同位置的标记的检测，因此与毫无关连地进行标记的检测动作与面位置信息(聚焦信息)的检测动作的情形相比较，能提升处理能力。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 组件 制造 | ||
【主权项】：
一种用能量束使物体曝光的曝光装置，其特征在于具备：移动体，能保持上述物体而在规定平面内在第1及第2方向上移动；以及标记检测系统，具有在上述第2方向位置不同的检测区域，可同时检测上述物体上的多个标记；上述移动体在上述第1方向上移动，用上述标记检测系统检测在上述物体上、在上述第1方向的位置不同的标记，并且随着上述物体在上述第1方向的位置不同，用上述标记检测系统所检测的标记数目亦不同。
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