[发明专利]一种紫外雪崩光电二极管探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201010506422.8 申请日: 2010-10-13
公开(公告)号: CN102074609A 公开(公告)日: 2011-05-25
发明(设计)人: 汪莱;郝智彪;熊兵;孙长征;罗毅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0336;H01L31/18
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贾玉健
地址: 100084 北京市10*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种紫外雪崩光电二极管探测器,包括蓝宝石衬底,蓝宝石衬底的侧面附着AlN缓冲层,AlN缓冲层的外侧附着p型AlxGa1-xN层,蓝宝石衬底的底部为倾斜斜面,在p型AlxGa1-xN层靠近底部的一侧面附着i-Si雪崩区层,在i-Si雪崩区层的外侧面附着n-Si层,而其制作方法将Si材料和AlGaN材料结合起来,可实现既适于紫外探测又具有良好性能的半导体雪崩光电二极管APD,采用p型AlxGa1-xN层作为紫外光的吸收层,采用i-Si作为雪崩区,让p型AlxGa1-xN层中的光生电子在i-Si中发生雪崩,从而实现微弱紫外光的检测。
搜索关键词: 一种 紫外 雪崩 光电二极管 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
一种紫外雪崩光电二极管探测器,包括蓝宝石衬底(1),其特征在于:蓝宝石衬底(1)的侧面附着AlN缓冲层(2),AlN缓冲层(2)的外侧附着p型AlxGa1‑xN层(4),x的范围为0~0.6,蓝宝石衬底(1)的底部为倾斜斜面,在p型AlxGa1‑xN层(4)靠近底部的一侧面附着i‑Si雪崩区层(5),在i‑Si雪崩区层(5)的外侧面附着n‑Si层(6),n‑Si层(6)外侧面附着n型欧姆电极(7),而p型AlxGa1‑xN层(4)的靠近底部的另一侧面附着p型欧姆电极(3),i‑Si雪崩区层(5)的高度和p型欧姆电极(3)的高度一致。
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