[发明专利]具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法及其结构有效
| 申请号： | 201010506843.0 | 申请日： | 2010-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN102446041A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 范莉立 | 申请（专利权）人： | 范莉立 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 程殿军 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法及其结构，该布设方法的步骤包含提供基板；形成透明导电层于该基板上，且该透明导电层具有多个图样区块彼此相邻设置；形成配向膜层于该基板上，且该配向膜层具有多个桥接式沟槽用以横跨在该等图样区块之间；形成导电层于该基板上，且该导电层具有多个电导线分别对应设置于该等桥接式沟槽上；形成导电对应层设置于该导电层的一侧，用以遮蔽该等电导线；以及形成保护层于该基板上，用以增加光学透光率与保护该基板、该透明导电层、该配向膜层与该导电层。 | ||
| 搜索关键词： | 遮蔽 亮点 桥接式 电极 布设 方法 及其 结构 | ||
【主权项】：
一种具遮蔽亮点的桥接式电极布设方法，其特征在于，其包含：提供一基板；形成一透明导电层于该基板上，且该透明导电层具有多个图样区块彼此相邻设置；形成一配向膜层于该基板上，且该配向膜层具有多个桥接式沟槽用以横跨在该等图样区块之间；形成一导电层于该基板上，且该导电层具有多个电导线分别对应设置于该等桥接式沟槽上；形成一导电对应层，设置于该导电层的一侧，用以遮蔽该等电导线；以及形成一保护层于该基板上，用以增加光学透光率与保护该基板、该透明导电层、该配向膜层与该导电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于范莉立，未经范莉立许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010506843.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
