[发明专利]曝光装置和曝光方法有效
| 申请号： | 201010508580.7 | 申请日： | 2010-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN102043345A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 芳贺伸介;大野真树;竹内太一 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B29C67/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了曝光装置和曝光方法，该曝光装置包括：旋转驱动部，旋转地驱动曝光对象；光照射部，利用激光照射曝光对象的曝光面；滑动移动部，被固定至旋转驱动部或光照射部，并在横穿旋转驱动部的旋转方向的方向上沿着曝光面移动旋转驱动部或光照射部；信号生成部，根据来自旋转驱动部的旋转同步信号向光照射部发送模拟调制信号，该模拟调制信号引起激光强度改变；以及控制部，控制旋转驱动部、滑动移动部和光照射部的移动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：旋转驱动部，旋转地驱动曝光对象；光照射部，利用激光照射所述曝光对象的曝光面；滑动移动部，被固定至所述旋转驱动部或所述光照射部，所述滑动移动部在横穿所述旋转驱动部的旋转方向的方向上沿着所述曝光面移动所述旋转驱动部或所述光照射部；信号生成部，根据来自所述旋转驱动部的旋转同步信号向所述光照射部发送模拟调制信号，所述模拟调制信号引起所述激光强度改变；以及控制部，控制所述旋转驱动部、所述滑动移动部和所述光照射部的移动。
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