[发明专利]具有抗指纹涂层的被覆件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010510347.2 申请日: 2010-10-15
公开(公告)号: CN102443763A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;彭立全 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种具有抗指纹涂层的被覆件,包括基材及形成于该基材上的抗指纹涂层,该抗指纹涂层包括一透明的SiO2层及一透明的CaF2层,该SiO2层位于该基材与该CaF2层之间。上述抗指纹涂层的被覆件的制备方法主要包括通过真空镀膜方法,如射频磁控溅射方法在基材上沉积一透明的SiO2层及一透明的CaF2层。该被覆件具有较好的疏水、抗指纹的效果。本发明还提供一种上述被覆件的制备方法。
搜索关键词: 具有 指纹 涂层 被覆 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有抗指纹涂层的被覆件,包括基材及形成于该基材上的抗指纹涂层,其特征在于:该抗指纹涂层包括一透明的SiO2层及一透明的CaF2层,该SiO2层位于该基材与该CaF2层之间。
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