[发明专利]透明导电性薄膜有效
申请号: | 201010510629.2 | 申请日: | 2010-08-19 |
公开(公告)号: | CN102029756A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 才木隆史;今村直也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08;B32B27/18;B32B27/36 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东;谭邦会 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种透明导电性薄膜,其包括设置在薄膜基底的一个表面上的聚合物层,和设置在聚合物层上的透明导电层,薄膜基底由聚酯形成,并被双向拉伸。薄膜基底的折射率η1与聚合物层的折射率η2的差|η1-η2|设置为至多0.02。聚合物层含有折射率ηP为至少1.80的金属氧化物颗粒,以及固定该颗粒、且折射率ηB为至少1.60的粘结剂。金属氧化物颗粒相对于粘结剂的质量比设置为大于0%且等于或小于100%。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 | ||
【主权项】:
一种透明导电性薄膜,其包括:薄膜基底,所述薄膜基底由聚酯形成,并被双向拉伸;聚合物层,所述聚合物层在所述薄膜基底的一个表面上形成,并含有折射率ηP为至少1.80的金属氧化物颗粒,及固定所述颗粒、且折射率ηB为至少1.60的粘结剂,所述颗粒相对于所粘结剂的质量比为至多100%,所述薄膜基底的折射率η1与所述聚合物层的折射率η2的差为至多0.02;和在所述聚合物层上形成的透明导电层。
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