[发明专利]BSIMSOI4直流模型参数的确定方法有效
申请号: | 201010515128.3 | 申请日: | 2010-10-21 |
公开(公告)号: | CN101976283A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 陈静;伍青青;罗杰馨;柴展;王曦 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种BSIMSOI4直流模型参数的确定方法,该方法通过提供若干不同尺寸的体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件;测量所有体引出结构MOSFET器件的Id-Vg-Vp、Id/Ip-Vd-Vg、Ig-Vg-Vd、Ig-Vp、Ip-Vg-Vd、Is/Id-Vp及Id/Ip-Vp-Vd特性,以及所有浮体结构MOSFET器件的Id-Vg-Vp、Id-Vd-Vg及Ig-Vg-Vd特性;并获取各个体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件的无自热效应的电学特性曲线;然后依次按照特定步骤提取BSIMSOI4模型的直流参数。本发明根据模型方程依次选择适当的测试曲线,逐步确定各类参数,从而可准确有效的提取出BSIMSOI4模型的直流参数。 | ||
搜索关键词: | bsimsoi4 直流 模型 参数 确定 方法 | ||
【主权项】:
一种BSIMSOI4直流模型参数的确定方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)提供若干不同沟道长度L和不同沟道宽度W的体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件;其中,0.85Lmin≤W≤1μm,0.85Lmin≤L≤1μm,Wmin和Lmin为工艺决定的最小值;(2)利用半导体参数测量仪测量所有体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件在不同温度下的电学特性数据;其中,体引出结构MOSFET器件所测量的电学特性包括:Id‑Vg‑Vp、Id/Ip‑Vd‑Vg、Ig‑Vg‑Vd、Ig‑Vp、Ip‑Vg‑Vd、Is/Id‑Vp及Id/Ip‑Vp‑Vd特性,浮体结构MOSFET器件所测量的电学特性包括:Id‑Vg‑Vp、Id‑Vd‑Vg及Ig‑Vg‑Vd特性;(3)测量所有体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件的热阻参数Rth,并根据步骤(2)所测的电学特性数据获取各个体引出结构MOSFET器件和浮体结构MOSFET器件的无自热效应的电学特性曲线;其中,体引出结构MOSFET器件的无自热效应的电学特性曲线包括:Id‑Vg‑Vp、Id/Ip‑Vd‑Vg、Ig‑Vg‑Vd、Ig‑Vp、Ip‑Vg‑Vd、Is/Id‑Vp及Id/Ip‑Vp‑Vd曲线,浮体结构MOSFET器件的无自热效应的电学特性曲线包括:Id‑Vg‑Vp、Id‑Vd‑Vg及Ig‑Vg‑Vd曲线;(4)依次按照下述步骤提取BSIMSOI4模型中的体引出结构MOSFET器件直流参数和浮体结构MOSFET器件直流参数:(a)计算Vg=0.5Vgg,Vd=0.1V,Vp=0V的偏压条件下的W=1μm且L=Lmin的体引出结构MOSFET器件与浮体结构MOSFET器件的Id比值,记作ratio,取参数dwc=(1‑ratio)/nbc,其中nbc为器件的版图参数;(b)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的电学特性数据提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的体效应的相关参数;(c)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的Is/Id‑Vp曲线提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的源体结和漏体结的相关参数;(d)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的Ip/Id‑Vp‑Vd曲线提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的寄生三极管的相关参数;通过调整参数ln优化所有W=1μm的体引出结构MOSFET器件的Ip/Id‑Vp‑Vd曲线的拟合效果,从而确定体引出结构MOSFET器件的参数ln;(e)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的I g‑Vp曲线和Ip‑Vg曲线提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的栅至体电流的相关参数;(f)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的I p‑Vg‑Vd曲线提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的栅致漏电流的相关参数;(g)根据所有尺寸的体引出结构MOSFET器件电学特性数据提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的漏电流Id和栅电流Ig的相关参数;(h)根据W=1μm且L=1μm的体引出结构MOSFET器件的Ip‑Vg‑Vd曲线和Ip‑Vd‑Vg曲线提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的碰撞电离电流的相关参数;通过调整参数lii和esatii,优化所有W=1μm的体引出结构MOSFET器件的Ip‑Vg‑Vd曲线和Ip‑Vd‑Vg曲线的拟合效果,从而确定体引出结构MOSFET器件的参数lii和esatii;(i)提取BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的与阈值电压、迁移率、串联电阻、饱和速度、结电流、寄生三极管和碰撞电离电流的温度相关参数,从而得到BSIMSOI4模型中体引出结构MOSFET器件的所有直流参数;(j)先将提取好的所有体引出结构MOSFET器件的直流参数应用于浮体结构MOSFET器件模型,然后将nbc、pdbcp、psbcp置为零,保持体偏压的相关参数,栅致漏电流、栅至体电流、结电流及寄生三极管的相关参数均不更改,并微调其余BSIMSOI4模型中浮体结构MOSFET器件的直流参数,优化浮体结构MOSFET器件的无自热效应的电学特性曲线拟合效果,从而确定BSIMSOI4模型中浮体结构MOSFET器件的所有直流参数。
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