[发明专利]一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法无效
申请号: | 201010517864.2 | 申请日: | 2010-10-25 |
公开(公告)号: | CN102005508A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 万青;曾梦麟;佘鹏;张雪平 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410082*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法,该方法采用等离子体增强化学气相沉积技术先在已清洗制绒的P型(或N型)硅片上沉积磷掺杂(或硼掺杂)的氮化硅减反膜,然后再进行常规高温退火处理,使得氮化硅层中的磷(或硼)部分扩散至P型(或N型)硅片中,在硅片表面形成PN结。该方法与产业化晶体硅太阳能电池生产工艺兼容,不需要复杂的POCl3或BBr3扩散和后续磷硅或硼硅玻璃的去除步骤,制作工艺更加简单,适合低成本批量化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 制备 晶体 太阳能电池 pn 减反膜 方法 | ||
【主权项】:
一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法,其特征是,该方法为:采用低温等离子体增强化学气相沉积工艺在经过表面织构化的P型硅片上沉积一层磷掺杂的氮化硅减反膜,然后对该P型硅片进行退火处理而使得氮化硅层的磷扩散到P型硅片中,并在硅片表面获得一层N型层,最终形成PN结。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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