[发明专利]一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法无效

专利信息
申请号: 201010517864.2 申请日: 2010-10-25
公开(公告)号: CN102005508A 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 万青;曾梦麟;佘鹏;张雪平 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 410082*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法,该方法采用等离子体增强化学气相沉积技术先在已清洗制绒的P型(或N型)硅片上沉积磷掺杂(或硼掺杂)的氮化硅减反膜,然后再进行常规高温退火处理,使得氮化硅层中的磷(或硼)部分扩散至P型(或N型)硅片中,在硅片表面形成PN结。该方法与产业化晶体硅太阳能电池生产工艺兼容,不需要复杂的POCl3或BBr3扩散和后续磷硅或硼硅玻璃的去除步骤,制作工艺更加简单,适合低成本批量化生产。
搜索关键词: 一种 连续 制备 晶体 太阳能电池 pn 减反膜 方法
【主权项】:
一种连续制备晶体硅太阳能电池PN结及减反膜的方法,其特征是,该方法为:采用低温等离子体增强化学气相沉积工艺在经过表面织构化的P型硅片上沉积一层磷掺杂的氮化硅减反膜,然后对该P型硅片进行退火处理而使得氮化硅层的磷扩散到P型硅片中,并在硅片表面获得一层N型层,最终形成PN结。
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