[发明专利]两端子多通道ESD器件及其方法有效
申请号: | 201010518126.X | 申请日: | 2010-10-25 |
公开(公告)号: | CN102376702A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | A·萨利;刘明焦 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/06;H01L21/77 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及两端子多通道ESD器件及其方法。在一个实施方式中,一种两端子多通道ESD器件被配置为包括齐纳二极管和多个P-N二极管。在另一个实施方式中,ESD器件具有不对称特性。 | ||
搜索关键词: | 端子 通道 esd 器件 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种ESD器件,包括:半导体衬底,其具有第一导电类型和第一掺杂浓度,该半导体衬底具有第一表面和第二表面;第一半导体层,其具有第二导电类型,位于所述半导体衬底的所述第一表面上,所述第一半导体层具有与所述半导体衬底的所述第一表面相反的第一表面,并且具有第二掺杂浓度;第二半导体层,其具有第二导电类型,上覆于所述第一半导体层的所述第一表面上,所述第二半导体层具有与所述第一半导体层的所述第一表面相反的第一表面,并且具有第三掺杂浓度;第一半导体区,其具有第二导电类型,至少具有位于所述第二半导体层内的一部分,所述第一半导体区形成齐纳二极管的一部分;第一阻挡结构,其形成为第一多连通域,所述第一多连通域具有第一周界并且从所述第二半导体层的第一表面延伸到所述第一半导体区中,但不穿过所述第一半导体区,所述第一周界至少围绕所述第二半导体层的第一部分;以及第一二极管,其位于所述第二半导体层的所述第一部分内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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