[发明专利]芯片信息去除方法有效
申请号: | 201010518519.0 | 申请日: | 2010-10-19 |
公开(公告)号: | CN102456544A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 刘小平;黄红伟;吴显欣 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种芯片信息去除方法,包括:将待处理芯片进行机械切碎,使整片芯片成为大量碎片;将碎片放入化学溶液中进行浸泡,去除芯片上的信息。本发明首先将整片芯片采用机械切碎形成大量碎片以后,再将碎片放入化学溶液中进行浸泡,彻底去除芯片上的有效信息,防止芯片上的信息泄露。所述芯片包括硅衬底,依次位于硅衬底上的晶体管器件区、钝化层及金属焊盘区,通过采用第一化学溶液、第二化学溶液及第三化学溶液分别对金属焊盘区及钝化层、晶体管器件区及硅衬底表面进行腐蚀,对相应位置上携带的信息进行去除,防止芯片上的信息泄露。 | ||
搜索关键词: | 芯片 信息 去除 方法 | ||
【主权项】:
一种芯片信息去除方法,其特征在于,包括:提供待处理的作废芯片,将所述芯片进行机械切碎,使整片芯片成为若干碎片;将碎片放入化学溶液中进行浸泡,去除芯片上的信息。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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