[发明专利]图案化纳米模板及其制备方法无效
| 申请号： | 201010520234.0 | 申请日： | 2010-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102030559A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 董敬敬;张兴旺;尹志岗;谭海仁;高云;张曙光;白一鸣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | C04B41/50 | 分类号： | C04B41/50;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种制备图案化纳米模板的方法，包括以下步骤：步骤1：利用提拉法，在亲水性良好的平面衬底上组装PS球，得到单层有序的PS球薄膜；步骤2：利用氧等离子体刻蚀PS球，改变PS球的大小；步骤3：旋涂异丙醇稀释的TiO2溶胶，静置待TiO2溶胶固化，使TiO2溶胶填充PS球间隙；步骤4：甲苯中超声完全去除PS球，得到图案化的纳米模板。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 纳米 模板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种制备图案化纳米模板的方法，包括以下步骤：步骤1：利用提拉法，在亲水性良好的平面衬底上组装PS球，得到单层有序的PS球薄膜；步骤2：利用氧等离子体刻蚀PS球，改变PS球的大小；步骤3：旋涂异丙醇稀释的TiO2溶胶，静置待TiO2溶胶固化，使TiO2溶胶填充PS球间隙；步骤4：甲苯中超声完全去除PS球，得到图案化的纳米模板。
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