[发明专利]镀膜装置无效
| 申请号： | 201010521460.0 | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102453879A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 王仲培 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种镀膜装置包括一镀膜腔体，及一同心料架。所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部，所述同心料架可绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架具有一内圈料架，及一围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架。所述镀膜装置进一步包括多个内靶座，及多个外靶座，所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。所述多个内靶座设置于所述内圈料架与所述外圈料架之间的区域且围绕所述内圈料架间隔分布，所述多个外靶座设置于所述外圈料架的外围且围绕所述外圈料架间隔分布。所述多个内靶座与所述多个外靶座相互错开。所述镀膜装置分别在内、外圈料架之间的区域及外圈料架的外围设置非对置的靶座，可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种镀膜装置，其包括：一个镀膜腔体；及一个同心料架，所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部，所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转；其特征在于：所述同心料架具有一个内圈料架，及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架；所述镀膜装置进一步包括多个内靶座，及多个外靶座，所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材，所述多个内靶座设置于所述内圈料架与所述外圈料架之间的区域且围绕所述内圈料架间隔分布，所述多个外靶座设置于所述外圈料架的外围且围绕所述外圈料架间隔分布；所述多个内靶座与所述多个外靶座相互错开。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010521460.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于角色的Web远程认证与授权方法及系统
- 下一篇：镀膜件及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
