[发明专利]基于双金属敏感层的激光直写灰度掩模制作方法无效
| 申请号： | 201010523114.6 | 申请日： | 2010-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102043179A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 王多书;陈焘;叶自煜;马锋;王济洲;刘宏开 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 张利萍;郭德忠 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于二元光学元件批量生产的双金属敏感层灰度掩模制作方法，它包括双金属敏感层的制作、灰度掩模曝光控制程序的设计和激光曝光三个步骤。首先在掩模基板表面镀制双金属薄膜，形成双金属敏感层；利用双金属敏感层透过率对于激光强度的敏感特性，采用激光直写方法对双金属敏感层进行曝光，形成透过率与二元光学元件衍射微结构设计信息相匹配的灰度掩模。灰度掩模含有多个二元光学元件的位相信息，再经过一次光刻过程和刻蚀后得到所需要的二元光学元件。由于该灰度掩模可重复使用，因而可用于二元光学元件的批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 双金属 敏感 激光 灰度 制作方法 | ||
【主权项】：
一种基于双金属敏感层的激光直写灰度掩模制作方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)双金属敏感层的制作：选用石英玻璃作基板，在其表面镀双金属薄膜，形成膜层厚度成一定比例的双金属敏感层；(2)灰度掩模曝光控制程序的设计：根据所设计的二元光学元件衍射微结构信息，利用计算机编程，将二元光学元件设计数据转换成激光直写设备控制程序；(3)激光曝光：用第(2)步编写好的曝光控制程序控制激光直写设备，利用双金属敏感层透过率对于激光的敏感特性，对双金属敏感层实现激光定位定量曝光，完成灰度掩模的制作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所，未经中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010523114.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
