[发明专利]使用光敏BCB为介质层的圆片级MMCM封装结构及方法有效

专利信息
申请号: 201010523659.7 申请日: 2010-10-27
公开(公告)号: CN102110673A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 汤佳杰;罗乐;徐高卫;袁媛 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L25/00 分类号: H01L25/00;H01L23/31;H01L23/522;H01L23/528;H01L21/50;H01L21/768
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 潘振甦
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种光敏BCB为介质层的圆片级MMCM封装结构及方法,其特征在于:1)在硅基板上制作出带有埋置腔体和金属地屏蔽层;2)使用光敏BCB作为介质层,利用光刻显影工艺在BCB形成互连通孔结构;3)金属层和介质层交替出现形成多层互连封装结构。所述的方法是在硅基板上腐蚀或刻蚀出埋置用腔体,溅射金属种子层并电镀形成GND,埋入MMIC芯片,使用导电胶粘结芯片与基板,涂敷光敏BCB并光刻显影出互连通孔图形,固化等工艺步骤,实现多层MMCM封装。所述的介质层厚度为20-35μm。在多层互连结构中还可集成电容、电阻、电感、功分器和天线无源器件,或者通过表面贴装工艺集成分立元器件,实现模块的功能化。
搜索关键词: 使用 光敏 bcb 介质 圆片级 mmcm 封装 结构 方法
【主权项】:
一种使用光敏BCB为介质层的圆片级MMCM封装结构,其特征在于:1)在硅基板上制作出带有埋置腔体和金属地屏蔽层;2)使用光敏BCB作为介质层,利用光刻显影工艺在BCB形成互连通孔结构;3)金属层和介质层交替出现形成多层互连封装结构。
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