[发明专利]涂敷装置及涂敷方法无效
| 申请号： | 201010526259.1 | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102049364A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 末田哲也;木林茂树;林洋志 | 申请（专利权）人： | 佳能机械株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/00 | 分类号： | B05C5/00;B05C11/10;B05B15/08;B05D1/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够实现生产性的提高，并且装置整体也不大型化且能够实现低成本化的涂敷装置及涂敷方法。涂敷装置具备用于将糊剂状的涂敷剂(P)向被涂敷部(20)涂敷的一对转印针(21、22)。通过状态变位单元交替地变位成第一状态和第二状态。第一状态中，第一转印针(21)与积存糊剂状的涂敷剂(P)的涂敷剂积存部的上方对应且第二转印针(22)与被涂敷部(20)的上方对应，第二状态中，第二转印针(22)与积存糊剂状的涂敷剂(P)的涂敷剂积存部的上方对应且第一转印针(21)与被涂敷部(20)的上方对应。通过Z轴方向移动单元，在第一状态及第二状态下使各转印针(21、22)沿上下方向即Z轴方向移动。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种涂敷装置，其具有用于将糊剂状的涂敷剂涂敷于被涂敷部的一对转印针，其特征在于，具有：状态变位单元，其能交替地变位成第一状态和第二状态，在所述第一状态中，第一转印针与积存糊剂状的涂敷剂的涂敷剂积存部的上方对应，并且第二转印针与被涂敷部的上方对应，在所述第二状态中，第二转印针与积存糊剂状的涂敷剂的涂敷剂积存部的上方对应，并且第一转印针与被涂敷部的上方对应；Z轴方向移动单元，其在第一状态及第二状态下，使各转印针沿上下方向即Z轴方向移动。
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