[发明专利]固体氧化物电解池电解质/氧电极界面微结构修饰方法无效

专利信息
申请号: 201010527682.3 申请日: 2010-10-27
公开(公告)号: CN102011140A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 梁明德;于波;文明芬;徐景明;陈靖 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C25B11/03 分类号: C25B11/03;C25B11/04;C25B1/04
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 朱印康
地址: 100084 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种固体氧化物电解池电解质/氧电极界面微结构修饰方法,属于高温蒸汽电解制氢和固体氧化物电解池领域。本发明利用氢电极和电解质在烧结过程中体积产生收缩的特性,通过两步烧结在致密的电解质上制备一层多孔YSZ,先在氢电极支撑体上涂覆一层电解质,进行预烧,使氢电极/电解质二合一片体积产生一定的收缩,然后再在电解质上涂覆一层YSZ电解质膜,经过高温烧结后电解质层形成致密层和多孔层两层结构。本方法可增加氧电极反应界面的有效活性面积,改善电解质与氧电极之间的连接,并在满足电解质气密性要求的前提下降低电解质层的厚度,从而提高固体氧化物电解池的制氢性能和运行的稳定性。本发明也适用于用于固体氧化物燃料电池的制备。
搜索关键词: 固体 氧化物 电解池 电解质 电极 界面 微结构 修饰 方法
【主权项】:
一种固体氧化物电解池电解质/氧电极界面微结构修饰方法,其特征在于,利用电解质在烧结过程中体积产生收缩的特性,通过两步烧结在致密的电解质上制备一层多孔的YSZ,增加氧电极反应界面的有效活性面积,改善电解质与氧电极之间的连接,并在满足电解质气密性要求的前提下降低电解质层的厚度,该方法的步骤如下:1)制备NiO‑YSZ氢电极支撑体,作为电解质薄膜的支撑体;将NiO粉、YSZ粉和造孔剂混合均匀,取适量粉体放入模具中压制成氢电极片,并将压制好的氢电极片在800℃~1100℃预烧1~5小时,成为电解质薄膜的支撑体,其中NiO粉和YSZ粉的质量比为0.8∶1~2∶1;2)在电解质薄膜的支撑体表面涂覆第一层YSZ电解质膜,厚度为4~100μm,并在1000℃~1400℃预烧1~20小时,使NiO‑YSZ氢电极支撑体/YSZ电解质二合一片产生体积收缩,并在电解质薄膜的支撑体表面形成第一层YSZ电解质层;3)再在第一层YSZ电解质层上涂覆第二层YSZ电解质膜,厚度为2~15μm,并在1250℃~1400℃烧结1~20小时,在电解质薄膜的支撑体表面形成第二层YSZ电解质层,烧结后第一层YSZ电解质层结构致密,第二层YSZ电解质层为多孔结构;4)用丝网印刷法或浆料涂覆法在电解质表面制备LSM‑YSZ氧电极;将LSM‑YSZ浆料通过丝网印刷法或浆料涂覆法涂覆到NiO‑YSZ氢电极支撑体/YSZ电解质二合一片的电解质上,再在1100℃~1250℃煅烧2小时,得到SOEC氧电极片,氧电极的厚度为10~100μm。
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