[发明专利]投影物镜最佳焦面检测装置及方法有效
| 申请号： | 201010530560.X | 申请日： | 2010-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN102455247A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 陈跃飞;徐兵;蔡巍;贾翔;王端秀 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出投影物镜最佳焦面检测装置，包括安装在光刻机工件台上的基准版和光电探测装置，光照射在所述光刻机中掩模版上的测量标记阵列上时，所述测量标记阵列通过所述投影物镜在所述基准版上成像，所述光电探测装置探测到所述基准版上的像；使用所述投影物镜最佳焦面检测装置的检测方法，利用最小二乘法得到中轴位置和清晰度的关系曲线，从而根据所述关系曲线的拐点所对应的中轴位置与测量标记阵列的视场的中轴位置的差值，来判断所述投影物镜最佳焦面的位置。投影物镜最佳焦面检测装置及方法，通过移动工件台，而所述投影物镜处于静止状态，就可以完成测量所述投影物镜最佳焦面的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 物镜 最佳 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
投影物镜最佳焦面检测装置，与光刻机配合使用以确定所述投影物镜的最佳焦面，所述投影物镜最佳焦面检测装置包括：基准版，安装在所述光刻机的工件台上；光电探测装置，安装在所述工件台中，位于所述基准版正下方、且与水平面成一定夹角；光照射在所述光刻机中掩模版上的测量标记阵列上时，所述测量标记阵列通过所述投影物镜在所述基准版上成像，所述光电探测装置探测到所述基准版上的像。
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