[发明专利]正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法有效
| 申请号： | 201010531407.9 | 申请日： | 2010-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102053497A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 村田惠;荒井雅史;花村政晓 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/008;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高，而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1，2-醌二叠氮化合物。[A]成分优选为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外，还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 树脂 组合 绝缘 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种正型放射线敏感性树脂组合物，其包含：[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1，2‑醌二叠氮化合物。
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