[发明专利]电感耦合等离子体装置有效
| 申请号： | 201010532812.2 | 申请日： | 2010-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102468105A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 蒋中伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合等离子体装置，包括：反应腔室；电感耦合线圈；静电卡盘，所述静电卡盘设置在所述反应腔室内，用于支撑待处理晶片；气体抽吸单元，所述气体抽吸单元与所述反应腔室相连接，用于对所述反应腔室抽真空；以及气体供给通路，所述气体供给通路选择性地与所述反应腔室和所述气体抽吸单元相连通。本发明的电感耦合等离子体装置可以减少了上步工艺残余气体对刻蚀效果的影响，从而提高了晶片生产的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
一种电感耦合等离子体装置，包括：反应腔室；电感耦合线圈，所述电感耦合线圈设置在所述反应腔室的上方；静电卡盘，所述静电卡盘设置在所述反应腔室内，用于支撑待处理晶片；气体抽吸单元，所述气体抽吸单元与所述反应腔室相连接，用于对所述反应腔室抽真空；以及气体供给通路，所述气体供给通路选择性地与所述反应腔室和所述气体抽吸单元相连通。
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