[发明专利]多工位渐变薄膜镀制设备无效
| 申请号： | 201010533532.3 | 申请日： | 2010-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN101985736A | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 张勇喜;金秀;杨文华;李野;阴晓俊;赵帅锋;赵珑现 | 申请（专利权）人： | 沈阳仪表科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/04 |
| 代理公司： | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人： | 郭元艺 |
| 地址： | 110043 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属真空镀膜设备领域，尤其涉及一种多工位渐变薄膜镀制设备，它包括驱动模块、基板（8）、工件盘（7）、掩膜机构（10）及均匀机构（11）；所述工件盘（7）位于基板（8）之上；所述工件盘（7）可绕其轴心旋转，其与基板（8）的间隔恒定；在所述工件盘（7）上固定设有镀膜工位；在所述基板（8）上对应所述镀膜工位位置设有镀膜孔；在所述镀膜工位与镀膜孔之间固定设有掩膜机构（10）；在所述镀膜孔的下部于基板（8）上固定设有均匀机构（11）；所述驱动模块的工作端与工件盘（7）固定相接。本发明可以实现工位（待镀基片）平稳精准地旋转变换，提高单次抽真空所镀制的产品数量，进而提升系统整体生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 多工位 渐变 薄膜 设备 | ||
【主权项】：
多工位渐变薄膜镀制设备，其特征在于，包括驱动模块、基板（8）、工件盘（7）、掩膜机构（10）及均匀机构（11）；所述工件盘（7）位于基板（8）之上；所述工件盘（7）可绕其轴心旋转，其与基板（8）的间隔恒定；在所述工件盘（7）上固定设有镀膜工位；在所述基板（8）上对应所述镀膜工位位置设有镀膜孔；在所述镀膜工位与镀膜孔之间固定设有掩膜机构（10）；在所述镀膜孔的下部于基板（8）上固定设有均匀机构（11）；所述驱动模块的工作端与工件盘（7）固定相接。
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