[发明专利]改善膜冷却的结构及方法有效
| 申请号： | 201010533889.1 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102042042A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | R·S·班克 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | F01D5/18 | 分类号： | F01D5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱铁宏;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及使用具有沿沟槽长度定向的孔的浅沟槽来改善膜冷却的结构及方法。具体而言，一种涡轮翼型件(40)包括多个浅沟槽(14)。各沟槽(14)均包括设置在内的多个膜孔(42)，且膜孔(42)沿沟槽(14)的纵向方向(46)定位并且沿沟槽(14)的纵向方向(46)成角度地穿过翼型件基底(60)。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 冷却 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种涡轮翼型件(40)，包括至少一个浅沟槽(14)，各沟槽均包括设置于其中的多个膜孔(42)，所述膜孔(42)沿对应沟槽(14)的纵向方向(46)定位并且大致沿对应沟槽(14)的纵向方向(46)成角度地穿过对应的翼型件基底(60)。
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